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LiNbO3集成光学器件耦合的基础是设计并制作出高质量的硅片V型槽。文章介绍了硅片V型槽的设计和制作方法 ,采用该方法制作出的硅片V型槽质量好、成品率高 ,已成功地用于各种LiNbO3集成光学器件的耦合中。
耦合用硅片V型槽的设计与制作
【摘 要】
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LiNbO3集成光学器件耦合的基础是设计并制作出高质量的硅片V型槽。文章介绍了硅片V型槽的设计和制作方法 ,采用该方法制作出的硅片V型槽质量好、成品率高 ,已成功地用于各种L
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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2000年A03期
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