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Tannoy,一个和发烧音响有着深厚渊源的品牌,在发烧音响界可以说是无人不晓。从1926年成立至今,作为世界上历史最悠久的扬声器公司,在88年间不间断研发更新扬声器技术,其中最著名的当属其于1947年研发的DC双中心同轴技术真实点声源驱动器。该技术发展至今经过无数次的更新与改进,选用新的材料、改进制造方式和不断的声学研究改良,从未止步,天朗品牌对于更完美技术的追求信念是特别值得尊敬的。
CMS系列的诞生——一场吸顶扬声器的革命
早在1990年代的时候,天朗就将演播录音级别的DC双中心同轴驱动器应用在天花扬声器上,诞生了CMS系列吸顶扬声器,当时吸顶扬声器声音品质普遍相对不高,CMS系列带来了一场商业音频市场的品质革命。CMS系列吸顶扬声器传递了指向性恒定的、自然的高品质音频。二十多年来,CMS系列的性能以及在应用上的成功,成就了其作为吸顶扬声器领军者的地位。
与常规的驱动单元不同,DC双中心同轴驱动是将两个驱动单元有效地合并成一个。高音单元位于低音单元的后面,这样实际地就处于同一个轴线上。这种系统能通过低音锥盆的中心将声音能量从同一个点扩散出去,从而形成一个真正的点声源。双中心同轴驱动器能发出一个球形波阵面,在垂直面和水平面上都有均匀的声音散射,因此能提供优异的离轴性能,带来非常广的听音范围。
DC技术在CMS系列的应用中,至今经过了三次更新,第一二次更新属于小范围的调整,第三次更新则从根本的设计上进行了一次革新,带来了明显的性能提升,也诞生了新的CMS3.0系列吸顶扬声器。
我们可以通过简单的图文对比,来进一步了解DC技术:
新的Omnimagnet设计低频和高频共享一个磁体,将高频隔膜和音喉对比前一代设计更接近于扬声器开口位置,严格缩短了传播路径,这在传统的双磁设计模式下是无法完成的,从而达到了更好的时间校准和一致性。传播路径的缩短,允许波阵面以更快的速率传播,满足指向性改进的需求。改进了低频和高频组合时声学中心的校准和一致性,减少波导的深度,提高低频性能,带来更好的净空和更高的分频点。
Torus Ogive Waveguide基于创新的专利(待定)设计原理,“Torus”指圆环形状的隔膜。
“Ogive”指图中波导装置中的相位塞,经过数学精确计算的火箭圆锥形状。
更浅的波导,更强烈的反射,波阵面快速展开传递到扬声器开口位置。
这样,对比前一代DC技术,第三代DC技术对于高频指向性的控制更好,可以带来更出众的宽频覆盖角度,更优异的中轴和离轴性能;更靠近声学中心的校准和相位一致性提高,带来了更清晰更精确的声音重现。低频驱动器的性能提高,带来了更平直的响应。我们可以通过两代技术在相同尺寸单元上的工作表现更清晰地理解技术革新带来的性能提升。
CMS系列的诞生——一场吸顶扬声器的革命
早在1990年代的时候,天朗就将演播录音级别的DC双中心同轴驱动器应用在天花扬声器上,诞生了CMS系列吸顶扬声器,当时吸顶扬声器声音品质普遍相对不高,CMS系列带来了一场商业音频市场的品质革命。CMS系列吸顶扬声器传递了指向性恒定的、自然的高品质音频。二十多年来,CMS系列的性能以及在应用上的成功,成就了其作为吸顶扬声器领军者的地位。
与常规的驱动单元不同,DC双中心同轴驱动是将两个驱动单元有效地合并成一个。高音单元位于低音单元的后面,这样实际地就处于同一个轴线上。这种系统能通过低音锥盆的中心将声音能量从同一个点扩散出去,从而形成一个真正的点声源。双中心同轴驱动器能发出一个球形波阵面,在垂直面和水平面上都有均匀的声音散射,因此能提供优异的离轴性能,带来非常广的听音范围。
DC技术在CMS系列的应用中,至今经过了三次更新,第一二次更新属于小范围的调整,第三次更新则从根本的设计上进行了一次革新,带来了明显的性能提升,也诞生了新的CMS3.0系列吸顶扬声器。
我们可以通过简单的图文对比,来进一步了解DC技术:
新的Omnimagnet设计低频和高频共享一个磁体,将高频隔膜和音喉对比前一代设计更接近于扬声器开口位置,严格缩短了传播路径,这在传统的双磁设计模式下是无法完成的,从而达到了更好的时间校准和一致性。传播路径的缩短,允许波阵面以更快的速率传播,满足指向性改进的需求。改进了低频和高频组合时声学中心的校准和一致性,减少波导的深度,提高低频性能,带来更好的净空和更高的分频点。
Torus Ogive Waveguide基于创新的专利(待定)设计原理,“Torus”指圆环形状的隔膜。
“Ogive”指图中波导装置中的相位塞,经过数学精确计算的火箭圆锥形状。
更浅的波导,更强烈的反射,波阵面快速展开传递到扬声器开口位置。
这样,对比前一代DC技术,第三代DC技术对于高频指向性的控制更好,可以带来更出众的宽频覆盖角度,更优异的中轴和离轴性能;更靠近声学中心的校准和相位一致性提高,带来了更清晰更精确的声音重现。低频驱动器的性能提高,带来了更平直的响应。我们可以通过两代技术在相同尺寸单元上的工作表现更清晰地理解技术革新带来的性能提升。