高性能电子溅射靶的制备

来源 :粉末冶金技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xsw2233
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大尺寸、高性能电子溅射靶是电子及信息产业不可或缺的材料 ,电子靶材一直是各国优先发展的高新技术材料。此光盘膜用靶材材料极易在制备过程中碎裂 ,并且密度越高 ,裂纹倾向越大。因此 ,高密度、高纯度、大尺寸是相互矛盾的 ,难以达到完美的统一。通过选择合适的成分配比、粉原料的预处理以及合理的热压工艺以及热等静压工艺制度 ,解决了制备过程中易出现裂纹的难题 ,制备了大尺寸 (直径 2 0 0mm)、高相对密度 (大于 90 % )、高纯度、密度分布均匀和组成相满足使用要求的靶材。经镀膜考核 ,靶材各项性能指标能够达到镀膜使用要求 ,与国外同类产品相当。
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