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本文对用于三维超出图形复制加工的约束刻蚀剂层技术进行了可行性研究。分析了刻蚀剂的扩出过程对电化学微细加工分辨率的影响，证明对刻蚀剂层进行约束可使该方法具里高敏感性，并成功地在ＧａＡＳ单晶上进行了初步的复杂三维微细图形的复制。
用于三维超微图形复制加工的约束刻蚀剂层技术研究
【摘 要】
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本文对用于三维超出图形复制加工的约束刻蚀剂层技术进行了可行性研究。分析了刻蚀剂的扩出过程对电化学微细加工分辨率的影响，证明对刻蚀剂层进行约束可使该方法具里高敏感性
【机 构】
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厦门大学
【出 处】
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仪器仪表学报
【发表日期】
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1996年S1期
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