【摘 要】
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采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了不同负偏压的Ru薄膜,利用XRD、台阶仪、XPS、AFM、纳米划痕仪和电化学工作站对薄膜相结构、表面形貌、膜基结合力以及腐蚀电化学性能进行了研
【机 构】
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采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了不同负偏压的Ru薄膜,利用XRD、台阶仪、XPS、AFM、纳米划痕仪和电化学工作站对薄膜相结构、表面形貌、膜基结合力以及腐蚀电化学性能进行了研究.结果表明：当负偏压在0~100 V时,薄膜六方结构（hcp）,具有（002）择优取向.随负偏压的升高,薄膜中出现面心立方（fcc）Ru O2相,此时薄膜两相共存,即hcp-Ru＋fcc-Ru O2.薄膜表面粗糙度随负偏压的升高先降低后升高,当负偏压为100 V时,薄膜表面粗糙度最低,其最低值为0.639 nm.薄膜的膜基结合力及在
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