GaAs基异质结材料MBE生长及应用

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:suny112233
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对GaAs基调制掺杂异质结材料中作为沟道层的InGaAs的生长条件进行优化,并在缓冲层中嵌入LT-GaAs。功率PHEMT器件结果为在栅长Lg=1.7μm,跨导Gm≥400mS/mm,BVds/15V,BVcs>12V,表明该材料有较好的性能。
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