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介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺，阐述了蓝宝石衬底的应用发展前景以及加工工艺中存在的问题，总结了影响CMP工艺的多种因素，并系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数及其影响因素，提出了优化方案，采用大粒径、低分散度的磨料，加入有机碱及活性剂．能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率。
蓝宝石衬底材料CMP抛光工艺研究
【摘 要】
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介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺，阐述了蓝宝石衬底的应用发展前景以及加工工艺中存在的问题，总结了影响CMP工艺的多种因素，并系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数及
【机 构】
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河北工业大学微电子研究所
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2006年1期
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