核黄素光敏损伤DNA的凝胶电泳

来源 :中国科学C辑 | 被引量 : 0次 | 上传用户：popelrain2009

【摘要】

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以琼脂糖凝胶电泳研究了波长为427~457 nm可见光照射下核黄素(VB2)光敏诱导的质粒DNA损伤, 结果发现DNA光敏损伤主要与照光量、核黄素和DNA浓度比、溶液中的氧气等有关. 在无

【作者】

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张连文林维真潘景喜韩镇辉林念芸

【机构】

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聊城师范学院化学系,,中国科学院上海原子核研究所辐射化学实验室,

【出处】

：

中国科学C辑

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

光敏治疗核黄素(VB2) 琼脂糖凝胶电泳质粒DNA

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以琼脂糖凝胶电泳研究了波长为427~457 nm可见光照射下核黄素(VB2)光敏诱导的质粒DNA损伤, 结果发现DNA光敏损伤主要与照光量、核黄素和DNA浓度比、溶液中的氧气等有关. 在无氧条件下光敏损伤更为显著, 证明VB2光敏损伤DNA 主要是通过VB2激发三重态与DNA碱基组分间发生电荷转移导致其产生氧化性损伤实现的.表明核黄素光敏损伤DNA时最佳浓度比为bp∶VB2 = 3.5∶1. 对照结果表明, 单链DNA(ssDNA)比双链DNA(dsDNA)的碱基更易被核黄素敏化发生损伤, 这可能是由于ssDNA中碱基暴露的原因.

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