射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的绿光发射

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dark709

【摘要】

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用射频磁控溅射法,在硅衬底上制备出具有良好的(002)择优取向的多晶ZnO薄膜.研究了室温下薄膜的光致发光特性,观察到显著的单绿光发射(波长为514 nm)峰.在氧气中830℃高温退

【作者】

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王卿璞张德恒马洪磊张兴华张锡健

【机构】

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山东大学

【出处】

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发光学报

【发表日期】

：

2004年3期

【关键词】

：

ZNO薄膜磁控溅射绿光发射 ZnO films magnetron sputtering green PL

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用射频磁控溅射法,在硅衬底上制备出具有良好的(002)择优取向的多晶ZnO薄膜.研究了室温下薄膜的光致发光特性,观察到显著的单绿光发射(波长为514 nm)峰.在氧气中830℃高温退火后,薄膜结晶质量明显提高,绿光发射峰强度变弱;在真空中830℃高温退火后,绿光发射峰强度增加.绿光发射源于氧空位深施主能级到价带顶的电子跃近.

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