【摘 要】
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采用磁控溅射法在涤纶水刺非织造布单面和双面分别沉积了纳米结构的Cu薄膜,利用矢量网络分析仪对所制备样品的电磁屏蔽效能进行了测试,并理论计算分析了单面屏蔽材料和双面屏
【机 构】
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江南大学生态纺织教育部重点实验室,无锡,214122
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采用磁控溅射法在涤纶水刺非织造布单面和双面分别沉积了纳米结构的Cu薄膜,利用矢量网络分析仪对所制备样品的电磁屏蔽效能进行了测试,并理论计算分析了单面屏蔽材料和双面屏蔽材料的屏蔽效能.结果表明:在总镀膜时间相同的情况下,双面屏蔽材料的电磁屏蔽效能要明显优于普通单面屏蔽材料的电磁屏蔽效能;普通单面屏蔽材料只对低波有相对较好的屏蔽效果,而双面屏蔽材料对低波和高波都有相对较好的屏蔽效果,且随着电磁波频率的增大,其屏蔽效能呈增大的趋势.
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