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以硫脲（SC（NH2）2）和三氯化锑（SbCl3）为主要原料，采用仿生法在玻璃基板上制备了Sb2S3薄膜，研究了热处理温度对薄膜晶相、显微结构和禁带宽度等的影响。采用X-射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）和紫外-可见自记式分光光度计等对薄膜的相组成、显微结构和光学性能进行了表征。结果表明：300℃热处理后获得的薄膜为无定形薄膜；随热处理温度的提高，薄膜的结晶性能变好，薄膜生长和取向性增强：随着热处理温度从300℃提高到500℃，薄膜的光学带隙由2．06eV降低到1．88eV。