碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chrisevenk
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采用低压化学气相沉积(LPCVD)在镍片上制备了厚度在400-1000μm范围的碳纳米管(CNTs)薄膜,研究了碳源(乙炔)流量对碳纳米管薄膜形貌和结构的影响.随乙炔流量的增加,碳纳米管薄膜厚度和产量增大.电子显微镜和拉曼光谱研究结果表明,在乙炔流量为10sccm下制备的碳纳米管直径分布范围最小(10-100nm),石墨化程度最高,缺陷密度最小,晶形最完整.随着乙炔流量的增大(30-90sccm),碳纳米管的直径分布范围增大(10-300nm),石墨化程度降低,缺陷密度增大,非晶化程度增加.因此,通过碳源
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