【摘 要】
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探索用Ｔｅ、Ｓｎ双掺杂实现掺杂剂分布正负梯度互补改善杂质纵向分布均匀性的外延工艺，讨论了有关问题，报道了主要结果。
This paper explores the epitaxial process of improving t
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探索用Ｔｅ、Ｓｎ双掺杂实现掺杂剂分布正负梯度互补改善杂质纵向分布均匀性的外延工艺，讨论了有关问题，报道了主要结果。
This paper explores the epitaxial process of improving the longitudinal distribution uniformity of impurities by using double doping of Te and Sn to realize the positive and negative gradient complementarity of dopant distribution. The related problems are discussed and the main results are reported.
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