【摘 要】
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目的：研究打磨与浸水对上颌义齿后腭边缘封闭区适合性的影响。方法：以快速水浴聚合法制作全口义齿基托，并于开盒后、磨除基托边缘０．５ｍｍ后，基托在（２２±２）℃浸泡２ｄ后及一周后用读数显微镜测量后
【机 构】
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广州中山医科大学光华口腔医院; 华西医大口腔医学院;
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目的：研究打磨与浸水对上颌义齿后腭边缘封闭区适合性的影响。方法：以快速水浴聚合法制作全口义齿基托，并于开盒后、磨除基托边缘０．５ｍｍ后，基托在（２２±２）℃浸泡２ｄ后及一周后用读数显微镜测量后腭边缘适合性。结果：打磨引起基托残余应力释放，基托适合性下降（Ｐ＜０．０５）。浸水２ｄ后基托适合性继续下降（Ｐ＜０．０５），浸水１周后，与浸水２ｄ时相比无统计学差异（Ｐ＞０．０５）。结论：打磨引起的残余应力释放，但随时间延长越来越小，吸水膨胀有一定补偿作用。短期快速聚合法对基托适合性有不利影响。
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