【摘 要】
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采用高压脉冲激光沉积技术和溶液旋涂法在p-GaN衬底上先后制备了ZnO纳米线和CsPbI3纳米结构,通过X射线衍射、扫描电子显微镜和光致发光研究了样品的结构、形貌和光学性能.利用该结构制备的发光二极管在正向电压下表现出较强的宽波段可见光发射,电致发光光谱由440 nm的蓝光、500～650 nm的黄绿光和705 nm的红光组成.实验发现,随着注入电流的增大,器件的电致发光颜色从接近白光逐渐变蓝,并且随着CsPbI3旋涂转速的降低,器件的发光颜色也从蓝光逐渐变为黄光.最后,利用能带模型详细讨论了复合结构的电
【机 构】
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鲁东大学 物理与光电工程学院,山东 烟台 264025;中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所,吉林 长春 130033
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采用高压脉冲激光沉积技术和溶液旋涂法在p-GaN衬底上先后制备了ZnO纳米线和CsPbI3纳米结构,通过X射线衍射、扫描电子显微镜和光致发光研究了样品的结构、形貌和光学性能.利用该结构制备的发光二极管在正向电压下表现出较强的宽波段可见光发射,电致发光光谱由440 nm的蓝光、500～650 nm的黄绿光和705 nm的红光组成.实验发现,随着注入电流的增大,器件的电致发光颜色从接近白光逐渐变蓝,并且随着CsPbI3旋涂转速的降低,器件的发光颜色也从蓝光逐渐变为黄光.最后,利用能带模型详细讨论了复合结构的电致发光机理,解释了器件发光光谱随注入电流和旋涂转速变化的原因.这种CsPbI3/ZnO纳米复合结构可以实现光谱色坐标从蓝光到白光的调节,为单芯片白光发射器件的制备提供了方案.
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