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该发明专利是一种可用在超高真空环境下的碳石墨材料的处理工艺，旨在解决碳石墨材料经机加工成型后用在超高真空环境下的问题。
可用在超高真空环境下的碳石墨材料处理工艺
【摘 要】
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该发明专利是一种可用在超高真空环境下的碳石墨材料的处理工艺，旨在解决碳石墨材料经机加工成型后用在超高真空环境下的问题。
【机 构】
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中国科学院等离子体物理研究所
【出 处】
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科技开发动态
【发表日期】
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2004年12期
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