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ASML和Nikon最新一代的浸没式光刻设备其数值孔径（NA）已经接近了使用水作为浸没液体所能达到的光学理论极限了。在SEMICON West大会上，Nikon发布了它的最新一代浸没式光刻设备NSR-S610C，其数值孔径达到了1．3；而ASML的Twinscan XT：1900i的数值孔径更是达到了惊人的1.35。