高择优取向Cu电沉积层的XRD研究

来源 :电化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhanglicg

【摘要】

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采用电化学和XRD方法在CuSO4+H2SO4电解液中获得Cu电沉积层并研究其结构.结果表明,在4.0 A/dm2和15.0 A/dm2电流密度下可分别获得(220)和(111)晶面高择优取向Cu镀层;Cu镀层晶

【作者】

：

辜敏杨防祖黄令姚士冰周绍民

【机构】

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汕头大学化学系,厦门大学化学系

【出处】

：

电化学

【发表日期】

：

2002年3期

【关键词】

：

CU 电沉积层 XRD 电沉积结构铜镀层 Electrodeposition Cu deposit Structure

【基金项目】

：

国家自然科学基金，国家重点实验室基金

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采用电化学和XRD方法在CuSO4+H2SO4电解液中获得Cu电沉积层并研究其结构.结果表明,在4.0 A/dm2和15.0 A/dm2电流密度下可分别获得(220)和(111)晶面高择优取向Cu镀层;Cu镀层晶面织构度随厚度提高而增大,获得(111)晶面高择优Cu镀层的厚度约是(220)晶面的7倍,说明Cu(220)晶面比(111)晶面是更易保留的晶面,且低电流密度下铜的电结晶更容易受电沉积条件控制;较高的沉积电流密度有利于晶核的形成;Cu镀层存在晶格畸变和晶胞参数的涨大.

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