【摘 要】
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用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法在室温下制备了Ag纳米夹层结构ZnO薄膜．用X射线衍射仪、紫外一可见分光光度计、四探针电阻测量仪和原子力显微镜对薄膜样品
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用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法在室温下制备了Ag纳米夹层结构ZnO薄膜．用X射线衍射仪、紫外一可见分光光度计、四探针电阻测量仪和原子力显微镜对薄膜样品的结构、光学透过率、面电阻和表面形貌进行表征．结果表明，ZnO衬底有利于Ag夹层形成连续膜．随着Ag层厚度的增加，Ag夹层ZnO薄膜呈现多晶结构，Ag（111）衍射峰强度增强，面电阻先迅速下降后缓慢下降．随着ZnO膜厚度的增加，Ag夹层ZnO薄膜的透射峰红移．制得样品的最佳可见光透过率高达92．3％，面电阻小于4．2Ω／□．
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