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期刊论文
聚酰亚胺表面化学沉铜前处理的微观分析
聚酰亚胺表面化学沉铜前处理的微观分析
来源 :印制电路信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sogood1918
【摘 要】
:
讨论了聚酰亚胺(PI)沉铜前处理过程对孔内沉铜空洞的可能影响,利用扫描电子显微镜分析了每道前处理后PI的微观表面状态.实验表明,只有当PI表面被PI调整剂粗化后方可以提高沉铜
【作 者】
:
胡光辉
李大树
蒙继龙
【机 构】
:
安捷利(番禺)电子实业有限公司,华南理工大学机械工程学院
【出 处】
:
印制电路信息
【发表日期】
:
2006年5期
【关键词】
:
聚酰亚胺
化学沉铜
前处理
polyimide
electroless copper plating
pretreatment
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讨论了聚酰亚胺(PI)沉铜前处理过程对孔内沉铜空洞的可能影响,利用扫描电子显微镜分析了每道前处理后PI的微观表面状态.实验表明,只有当PI表面被PI调整剂粗化后方可以提高沉铜层与PI之间的结合力,而且沉铜层与PI间的结合力还与沉铜时间相关.
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