减反射薄膜的制备及其性能

来源 :第二届全国纳米技术与应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dachenggege
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
使用射频溅射和溶胶-凝胶(Sol-Gel)两种方法在玻璃表面制备SiO<,2>减反射薄膜,比较两种方法制备的薄膜减反效果.分析了Sol-Gel方法中溶胶浓度、陈化时间以及退火温度对薄膜透过率的影响.当溶胶浓度为0.4M、陈化时间为6天以及退火温度达450℃时,制得的样品透过率可达99.3%.采用红外光谱分析了SiO<,2>溶胶及凝胶的结构变化过程,发现随着陈化时间和退火温度增加,Si—O—Si键增强.
其他文献
简要介绍了第26届国际半导体物理会议上一些受到广泛关注的课题,它们代表了半导体物理研究领域里的研究热点和前沿工作,希望能够为今后的研究工作提供一个参考方向.