论文部分内容阅读
进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究，制备出了不同组分的Mg/Si混合膜，并利用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）、透射电镜（TEM）等测试手段，对混合膜的结构进行了初步分析。分析结果表明：Mg/Si混合膜中的镁以单取向多晶形式存在，硅以非晶形式弥散在镁的晶粒之间。