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期刊论文
LN2716—16KEPROM的研制
LN2716—16KEPROM的研制
来源 :微处理机 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sdddddddd
【摘 要】
:
本文将介绍紫外光擦除、电可编程序“唯读”存贮器—16KEPROM 的研制概况。重点介绍器件特点及制造工艺,提供存贮单元的写入机理、擦除模型。并给出器件版图设计和器件物理参
【作 者】
:
禹承熙
【机 构】
:
电子工业部四十七研究所,
【出 处】
:
微处理机
【发表日期】
:
1987年01期
【关键词】
:
栅氧化层
LN2716
夹断电压
离子注入工艺
存贮单元
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本文将介绍紫外光擦除、电可编程序“唯读”存贮器—16KEPROM 的研制概况。重点介绍器件特点及制造工艺,提供存贮单元的写入机理、擦除模型。并给出器件版图设计和器件物理参数。最后讨论可靠性实验结果。
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