等离子化学气相沉积 TiN 涂层的组织与性能研究

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本文用透射电镜和 X 光衍射仪揭示了等离子化学气相沉积(以下简称等离子沉积法)TiN 涂层的物相及超细晶粒、位错、孪晶、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。 In this paper, the microstructure of TiN coating by plasma chemical vapor deposition (hereinafter referred to as plasma deposition method) and ultrafine grains, dislocations, twins, preferred orientation and other microstructures were revealed by TEM and XRD. The performance of the layers were tested comparatively.
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