Micronic针对中国的光掩膜行业举办技术研讨会

来源 :电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhaoxiufen

【摘要】

：

Micronic Laser Systems AB针对中国的光掩膜制造商在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会，为与会者提供最新的图形描绘技术，并详细介绍Micronic完善的服务支持。此举是Micronic

【出处】

：

电子技术

【发表日期】

：

2006年10期

【关键词】

：

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

Micronic Laser Systems AB针对中国的光掩膜制造商在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会，为与会者提供最新的图形描绘技术，并详细介绍Micronic完善的服务支持。此举是Micronic持续拓展其领先光掩膜制造中心策略的一部分。

其他文献

问：近日，IBM研究院Thomas J．Watson研究中心科技副总裁——陈自强博士面对当前半导体业内三个问题。提出了自己的观点。第一是Silicon CMOS技术到底能够延长多久？半导体己经经过

期刊

CZ硅单晶受中子辐照,产生辐照缺陷,使其电阻率相对于其原始值有一定的偏差,经氮气气氛、650～700℃热处理,其电阻率可以基本恢复原始值.

期刊