【摘 要】
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主要分析了目前最常用的氟系药液去除干法刻蚀后存留聚合物的原理及该过程中对CD测试的影响,通过实验比较了该清洗工艺过程中关键工艺参数对CD测试的影响,并找到了影响CD测试
【机 构】
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上海交通大学微电子学院,华虹NEC电子有限公司FAB1
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主要分析了目前最常用的氟系药液去除干法刻蚀后存留聚合物的原理及该过程中对CD测试的影响,通过实验比较了该清洗工艺过程中关键工艺参数对CD测试的影响,并找到了影响CD测试的关键因素,进而提出了监控关键工艺参数等有效的控制方法。
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