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Cu-Ni多层膜纳米压痕下微观变形结构的研究
Cu-Ni多层膜纳米压痕下微观变形结构的研究
来源 :电子显微学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lunxyxd
【摘 要】
:
金属多层膜具有化学、电子、磁学和力学等方面的许多优异性能,目前被广泛用于光学器件、磁记忆介质和作为互连体材料,尤其近年在微电子机械系统领域的应用引起了广泛注意.
【作 者】
:
谭军
谢天生
张广平
【机 构】
:
沈阳材料科学国家(联合)实验室
【出 处】
:
电子显微学报
【发表日期】
:
2005年4期
【关键词】
:
纳米压痕技术
金属多层膜
变形结构
微电子机械系统
载荷-位移曲线
微观
测试技术
力学参量
光学器件
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金属多层膜具有化学、电子、磁学和力学等方面的许多优异性能,目前被广泛用于光学器件、磁记忆介质和作为互连体材料,尤其近年在微电子机械系统领域的应用引起了广泛注意.
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