【摘 要】
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采用改进的化学汽相沉积工艺，沉积了光纤阻挡层和疏松层．结合溶液掺杂技术，研究了疏松层沉积温度、镱铝共掺工艺条件对掺镱浓度的影响，研究了大模场面积纤芯的制备工艺，实现了高浓
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
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采用改进的化学汽相沉积工艺，沉积了光纤阻挡层和疏松层．结合溶液掺杂技术，研究了疏松层沉积温度、镱铝共掺工艺条件对掺镱浓度的影响，研究了大模场面积纤芯的制备工艺，实现了高浓度大模场面积掺镱双包层光纤的研制．测量并分析了光纤的光学性能参数及其激光特性，光纤芯径达到30μm，纤芯掺镱浓度提高到4000ppm以上，芯数值孔径降至0．07，光纤的模场面积从113μm^2提高到1256μm^2，光纤的非线性效应阈值功率由12W提高到大于128W．
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