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多晶硅还原炉低电压启动转高电压启动设备结构改造
多晶硅还原炉低电压启动转高电压启动设备结构改造
来源 :江西化工 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq7758521
【摘 要】
:
目前国内多晶硅生产中,还原炉多采用高电压击穿的方式启动,但国外多晶硅生产中多采用低电压击穿,一些进口还原炉采用了低电压启动的结构设计。现本文将以MSA还原炉为例,分析阐述
【作 者】
:
黄琰
李国安
【机 构】
:
江西赛维LDK太阳能多晶硅有限公司
【出 处】
:
江西化工
【发表日期】
:
2011年4期
【关键词】
:
多晶硅
还原炉
低压启动
高压启动
爬电距离
Polysilicon
CVD Reactor Low Voltage Startup High Voltage
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目前国内多晶硅生产中,还原炉多采用高电压击穿的方式启动,但国外多晶硅生产中多采用低电压击穿,一些进口还原炉采用了低电压启动的结构设计。现本文将以MSA还原炉为例,分析阐述满足低压启动还原炉改成高压启动条件,对炉体结构的改造方案。
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