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用大直径中空柱状阴极直流磁控溅射装置，在Φ５１ｍｍ ＬａＡｌＯ３衬底上制备了ＹＢＣＯ薄膜。利用Ｘ射线衍射，电子通道花样，Φ扫描，扫描电镜对薄膜进行了分析。在５１ｍｍ直径范围内薄膜的零电阻温度ＴＣ为８８－９０Ｋ。
大面积YBCO超导薄膜沉积工艺
【摘 要】
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用大直径中空柱状阴极直流磁控溅射装置，在Φ５１ｍｍ ＬａＡｌＯ３衬底上制备了ＹＢＣＯ薄膜。利用Ｘ射线衍射，电子通道花样，Φ扫描，扫描电镜对薄膜进行了分析。在５１ｍｍ直径范围内薄膜的零电阻温度ＴＣ为８８－９０Ｋ。
【机 构】
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北京有色金属研究总院
【出 处】
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稀有金属
【发表日期】
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1998年6期
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