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多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及其场电子发射
多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及其场电子发射
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aiwen8431071
【摘 要】
:
研究了多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备工艺及其场电子发射特性.以多孔硅作为生长金刚石突起阵列的模板,生长出带多微尖的微晶金刚石晶粒,使场电子发射阈值下降(<1V/μm),发射
【作 者】
:
陈光华
蔡让岐
宋雪梅
贺德衍
【机 构】
:
北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室,兰州大学物理科学与技术学院
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
多孔硅
金刚石薄膜
场电子发射
porous silicondiamond filmsfield electron emission
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研究了多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备工艺及其场电子发射特性.以多孔硅作为生长金刚石突起阵列的模板,生长出带多微尖的微晶金刚石晶粒,使场电子发射阈值下降(<1V/μm),发射电流增大(>90mA/cm^2),场发射性能稳定,并对这种场发射特性做出了理论解释.
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