Si基底上TiN膜不同参数(分压,膜厚,束流强度)下的PAT缺陷分析

来源 :第五届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jpy_2008

【摘要】

：

用IBAD(ion beam assisted deposition)方法镀TiN膜不但有很好的膜基结合力,而且纳米硬度、耐腐、耐磨性能可通过高低能结合的方法来提高.本文作者用PAT(positron annihilation technique)技术分析了在同一高低能条件下不同参数对Si基底的缺陷的影响,解释并论证了改进实验的方法.

【作者】

：

冯宏剑赵杰

【机构】

：

天津师范大学物电学院凝聚态物理中心(天津);渭南师范学院量子光学与光子学研究室/物理学系(陕西渭南)

【出处】

：

第五届中国功能材料及其应用学术会议

【发表日期】

：

2004年10期

【关键词】

：

IBAD PAT 缺陷 TiN膜 Si基底

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