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[期刊论文] 作者：张之钧,尹云舰,李潇逸,倪芸岚,邢攸美,
来源：浙江化工 年份：2021
光刻是一种利用曝光、显影和刻蚀等工艺将光掩模上的图形转移到衬底材料上的工艺,是半导体器件制造工艺中的重要步骤。其中,在光刻胶层刻画图形时,主要涉及材料为光刻胶、显影液。在G线(436 nm)、I线(365 nm)光刻工艺中,光刻胶主要是酚醛树脂-重氮萘醌体系,显影......
[期刊论文] 作者：邢攸美, 高立江, 周利超, 王小眉, 倪芸岚, 胡涛,,
来源：浙江化工 年份：2019
聚集性诱导延迟荧光(Aggregation-induced delayed fluorescence,AIDF)材料兼具聚集性诱导发光和热诱导延迟荧光双重性质,是目前最具应用前景的有机发光二极管(Organic Light...
[期刊论文] 作者：邢攸美, 李潇逸, 高立江, 李欢, 倪芸岚, 王小眉, 胡,
来源：浙江化工 年份：2019
高精细芯片和显示集成电路主要采用铜制程,其光刻工艺中形成铜膜层结构所需用的铜刻蚀液中最主要的为双氧水系铜刻蚀液。然而双氧水系铜刻蚀液需添加控制刻蚀方向、刻蚀速率...
[期刊论文] 作者：倪芸岚,邢攸美,胡涛,尹云舰,李潇逸,张之钧,王小栋,余红刚,
来源：天津化工 年份：2021
非离子型双子(Gemini)表面活性剂具备优异的表面活性和独特的分子结构,且不会引入金属离子杂质,在集成电路领域具有巨大的应用潜力。通过对Gemini非离子表面活性剂的部分基团的进行改性,能够显著提高其各项性能,应用于湿电子材料后能够匹配集成电路领域的高精细......
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