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[期刊论文] 作者：李国荣,赵馗,严利均,Hiroshi Iizuka,刘身健,,
来源：北京大学学报:自然科学版 年份：2019
由于常规等离子体刻蚀系统在晶圆边缘处的阻抗与晶圆中心处的阻抗不一致,使离子在晶圆边缘处的运动轨迹发生偏移,很难满足越来越高的刻蚀工艺均匀性及深宽比的要求。本文提出...
[期刊论文] 作者：李国荣,赵馗,严利均,Hiroshi Iizuka,刘身健,,
来源：北京大学学报（自然科学版） 年份：2019
由于常规等离子体刻蚀系统在晶圆边缘处的阻抗与晶圆中心处的阻抗不一致,使离子在晶圆边缘处的运动轨迹发生偏移,很难满足越来越高的刻蚀工艺均匀性及深宽比的要求.本文提出...
[期刊论文] 作者：李国荣, 张洁, 赵馗, 耿振华, 曹思盛, 刘志强, 刘身健,,
来源：半导体技术 年份：2019
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