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[学位论文] 作者：卢春灿,,
来源： 年份：2010
磁控溅射具有沉积速率高及基片温升低的特点,在真空镀膜领域有着广泛的应用。而外部等离子体辅助磁控溅射技术具有比常规磁控溅射更高的金属离化率和等离子体密度,能够在低温...
[期刊论文] 作者：卢春灿,,
来源：福建交通科技 年份：2018
在分析滑坡区地质环境的基础上,根据滑坡的发生及发展过程,阐述边坡滑坡的变形特征、性质,在对滑坡的稳定性进行定性及定量的分析的基础上,提出了采用微型桩抗滑的处置措施,...
[期刊论文] 作者：谢红梅,聂朝胤,卢春灿,杨娟,,
来源：润滑与密封 年份：2009
采用电弧离子镀技术在45°钢衬底表面沉积了CrNx薄膜。用显微硬度计测试了薄膜的硬度，用X射线衍射仪分析了薄膜的相结构，用球．盘式摩擦磨损试验机评价了在不同介质条件下（干......
[期刊论文] 作者：聂朝胤,安藤彰朗,卢春灿,廖兵,
来源：功能材料 年份：2009
研究了Ti掺杂对磁控溅射类金刚石（DLC）薄膜附着力及硬度的影响，同时在Ti掺杂类金刚石（Ti-DLC）薄膜的基础上，通过引入Ti应力缓和层制备了Ti／Ti-DLC／Ti／Ti-DLC……软硬交替多层薄膜，研究......
[期刊论文] 作者：谢红梅,张碧云,卢春灿,聂朝胤,,
来源：表面技术 年份：2008
多弧离子镀TiN薄膜具有广泛的应用。采用多弧离子镀技术在不锈钢衬底表面沉积了TiN薄膜。用显微硬度计测试了TiN薄膜的硬度，用往复球-盘式摩擦磨损试验机评价了在GCr15和Si3N4...
[期刊论文] 作者：聂朝胤,Akiro Ando,卢春灿,贾晓芳,,
来源：金属学报 年份：2009
采用电弧离子反应沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了Cr-Si-C-N薄膜,三甲基硅烷（TMS）反应气体作为Si和C掺杂源,通过改变TMS流量实现了薄膜中Si和C含量的调节.利用XPS,XRD,...
[期刊论文] 作者：杨娟,文晓霞,卢春灿,陈志谦,聂朝胤,
来源：西南大学学报：自然科学版 年份：2008
采用脉冲偏压电弧离子镀技术沉积了CrN薄膜，并考察了在不同偏压下薄膜的表面形貌、相结构、显微硬度和耐磨性．随着偏压的增加，CrN薄膜表面颗粒逐渐变少，表面粗糙度降低，结晶度增大......
[期刊论文] 作者：杨娟,文晓霞,卢春灿,陈志谦,聂朝胤,,
来源：西南大学学报(自然科学版) 年份：2008
采用脉冲偏压电弧离子镀技术沉积了CrN薄膜,并考察了在不同偏压下薄膜的表面形貌、相结构、显微硬度和耐磨性.随着偏压的增加, CrN薄膜表面颗粒逐渐变少,表面粗糙度降低,结晶...
[期刊论文] 作者：卢春灿,聂朝胤,潘婧,贾晓芳,谢红梅,杨娟,,
来源：材料导报 年份：2010
采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术,通过改变氮气流量以及离子源功率,在低温(150℃)条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨...
[期刊论文] 作者：杨娟,聂朝胤,陈志谦,谢红梅,文晓霞,卢春灿,,
来源：表面技术 年份：2008
采用电弧离子镀技术在不锈钢基体表面制备了CrNx薄膜，并采用场发射扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度仪、球一盘式摩擦磨损试验机等手段对在不同偏压下沉积的CrNx，薄膜的表面形...
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