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[期刊论文] 作者：宋矿宝,章文红,赵亚东,范捷,
来源：半导体技术 年份：2004
通过对硅片翘曲情况及AZ603-14cp正性光刻胶的测试,在步进光刻机的聚焦曝光原理基础上分析了硅片翘曲对条宽均匀性的影响.从而得到了在集成电路,尤其是小尺寸集成电路的制造...
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