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[期刊论文] 作者：伊藤正义,宫川博治,张锦葵,管英衔,李怀曙,
来源：低温与特气 年份：1987
本发明是关于用硅或硅合金进行氯化制备Si2Cl6的方法。在得到的生成物中含有Si3Cl8以上的高沸点组分。通过两段低级化处理，即(1)初始的副产高沸点组分，通过加热进行低级化反应...
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