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[期刊论文] 作者：张配荧, 尹玄文, 李珍, 陆学民, 路庆华,
来源：功能高分子学报 年份：2020
光刻胶产业化过程遇到的第一个技术屏障是实验室优化的材料组分和光刻工艺在工业生产线上不能再现图形，原因是实验室与工业生产线的曝光方式不同所致。本文以负性光敏聚酰亚胺树脂为例，配合以不同引发速率的引发剂，在相同的曝光能量下以步进式（高功率、短时间）和接触......
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