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[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：磁记录材料 年份：1990
前言在磁记录领域中,随着存储量的增加,人们围绕如何提高记录密度,进行了种种研究。为了提高记录密度,要从缩小磁道宽度和提高线记录密度这两方面努力。若要提高线记录密度,...
[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：电子世界 年份：1991
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[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1992
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[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1997
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[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1995
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[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1996
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[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1996
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[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1994
日本Alps电气公司开发成功一种称之为“Hiper－Nancmax”的亚微米结晶薄膜，这是一种磁致伸缩常数小至10－4，而兼备了优越耐腐蚀能的铁、硅、铝、铝、碳（Fe－Si－Al－Hf－C）系合金。目前的实际......
[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1992
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[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：信息记录材料 年份：1994
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[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：磁记录材料 年份：1993
在磁头的技术革新方面,磁芯薄膜起的作用是很大的。这是由于它直接决定了磁头的记录、再生特性。关于材料的选用,具有比以往材料的磁特性优越的铁微结晶材料已经实用化,...
[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1993
富士通研制成功一种面记录密度达2Gb/in~2的1.8in(4.57cm)硬磁盘,可采用垂直记录方式,在硬盘中,面记录密度为2Gb/in~2是迄今公布的最高值。眼下市售硬盘的最高面记录密...
[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：磁记录材料 年份：1991
本文从比较颗粒介质的角度入手,扼要地叙述连续薄膜介质的各种优缺点、发展历史、大致分类。接着着重就目前已在磁盘中得到实际应用的连续薄膜介质,讨论其主要性能特点,薄膜...
[期刊论文] 作者：屠友灿,
来源：磁记录材料 年份：1992
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[会议论文] 作者：屠友灿,
来源：中国计算机学会磁学新进展讨论会 年份：1985
该文从简单回顾硬磁盘机的历史入手，在市场和技术两个方面扼要地剖析了硬磁盘机的现状与发展趋势，最后笔者对我国硬磁盘机的发展情况与远景进行了叙述。（本刊录）...
[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：磁记录材料 年份：1993
富士通研制成功一种面记录密度达2Gb/in~2的1.8in(4.57cm)硬磁盘,可采用垂直记录方式,在硬盘中,面记录密度为2Gb/in~2是迄今公布的最高值。眼下市售硬盘的最高面记录密度为1...
[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：磁记录材料 年份：1993
日本磁记录介质工业协会公布了磁记录介质(音频磁带、视频磁带、软磁盘)1993年的世界需求预测和国内生产预测。尽管音频磁带、视频磁带的世界需求呈上升趋势,但日本国内苦于...
[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：微电子学与计算机 年份：1988
本文以DRAM为重点,概述半导体存储器的主要发展动向:大容量化,高密度化、高速度化和高功能化。This article focuses on DRAM, the main overview of semiconductor memory...
[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：磁记录材料 年份：1988
本文回顾了当前垂直磁记录的发展状况。从工业生产的观点来看,环形磁头在钡铁氧体颗粒介质上记录。最接近于实际应用.东芝公司已经开发了一种采用3.5英寸钡铁氧体磁盘的4MB软...
[期刊论文] 作者：屠友灿,,
来源：今日科技 年份：1990
中国磁记录设备公司杭州磁记录设备厂研制成功我国第一台P18型微机控制红外再流焊机。它为厚膜集成电路和印刷电路板表面安装片状元件的焊接加工提供了关键工艺设备。Chin...
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