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[期刊论文] 作者：山口佳一,征矢野晃雅,島基之,,
来源：影像科学与光化学 年份：2012
光刻技术在半导体器件大规模生产中发挥重要作用.今天,多数先进半导体生产都已经应用ArF准分子激光浸润光刻技术.双重图像曝光和侧壁图像转移技术使ArF准分子激光浸润光刻技...
[期刊论文] 作者：山口佳一,征矢野晃雅,島基之,
来源：影像科学与光化学 年份：2012
光刻技术在半导体器件大规模生产中发挥重要作用．今天，多数先进半导体生产都已经应用ArF准分子激光浸润光刻技术．双重图像曝光和侧壁图像转移技术使ArF准分子激光浸润光刻技术延......
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