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[期刊论文] 作者：廖佐(日升),范迎新,任伟,王萍,李学文,杨基南,,
来源：电子工业专用设备 年份：2003
采用液态有机硅源的等离子体增强化学气相淀积设备是通向深亚微米时代的桥梁.介绍研制的液态源化学气相淀积设备的工作原理、结构特点和工艺结果,制备的SiO2薄膜膜厚均匀性±...
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