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[期刊论文] 作者：张光明,白金超,曲泓铭,张益存,于凯,,
来源：液晶与显示 年份：2017
针对栅极绝缘层和栅极引线接触处形成过孔倒角造成的一种垂直线不良进行分析和改善。研究气相沉积、干法刻蚀和磁控溅射对过孔倒角的影响，通过扫描电子显微镜对过孔形貌进行表......
[期刊论文] 作者：张光明, 刘杰, 徐守宇, 郑云友, 吴成龙, 曲泓铭, 李伟,,
来源：液晶与显示 年份：2013
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[期刊论文] 作者：白金超, 王静, 赵磊, 张益存, 郭会斌, 曲泓铭, 宋勇志,,
来源：液晶与显示 年份：2017
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[期刊论文] 作者：张光明,刘杰,徐守宇,郑云友,吴成龙,曲泓铭,李伟,宋泳珍,,
来源：液晶与显示 年份：2013
为了减少制造工艺的流程,改进的4-Mask工艺被广泛应用。但这个工艺仍存在一些问题,如果有源层刻蚀和第二次源漏数据线刻蚀之间间隔时间较长（≥5.9h）,则有源层刻蚀所用气体Cl2形...
[期刊论文] 作者：张光明,刘杰,徐守宇,郑云友,吴成龙,曲泓铭,李伟,宋泳珍,,
来源：液晶与显示 年份：2013
为了减少制造工艺的流程,改进的4-Mask工艺被广泛应用.但这个工艺仍存在一些问题,如果有源层刻蚀和第二次源漏数据线刻蚀之间间隔时间较长(≥5.9h),则有源层刻蚀所用气体Cl2...
[期刊论文] 作者：白金超,王静,赵磊,张益存,郭会斌,曲泓铭,宋勇志,张亮,,
来源：液晶与显示 年份：2017
本文对氮化硅的增强电容耦合等离子刻蚀进行研究,为氮化硅刻蚀工艺的优化提供参考。针对SF6+O2气体体系,通过设计实验考察了功率、压强、气体比、氦气等对刻蚀速率和均一性的...
[期刊论文] 作者：张光明,刘杰,徐守宇,郑云友,吴成龙,曲泓铭,李伟,宋泳珍,李正勳,,
来源：液晶与显示 年份：2013
为了减少制造工艺的流程,改进的4-Mask工艺被广泛应用。但这个工艺仍存在一些问题,如果有源层刻蚀和第二次源漏数据线刻蚀之间间隔时间较长(≥5.9h),则有源层刻蚀所用气体Cl2...
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