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[学位论文] 作者：李扬环,,
来源：浙江大学 年份：2012
随着集成电路工艺发展到超深亚微米阶段,光刻工艺已经成为限制集成电路技术发展的因素之一。光学邻近效应在当前集成电路制造过程中变得越来越严重,工艺界采用多种分辨率增强...
[期刊论文] 作者：李扬环,
来源：石油库与加油站 年份：2017
为了推动加油卡整体业务的更好发展，针对日益激烈的市场竞争环境和互联网的发展，在分析了目前使用的实体加油卡现状和存在不足的前提下，对电子加油卡的应用进行了设计，介绍了电子......
[期刊论文] 作者：李扬环,史峥,耿臻,杨祎巍,严晓浪,,
来源：半导体学报 年份：2012
A new complexity penalty term called the global wavelet penalty is introduced,which evaluates the high-frequency components of masks more profoundly by applying...
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