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[期刊论文] 作者：段路强,,
来源：集成电路应用 年份：2018
硅外延过程中图形漂移是影响外延质量的一个重要参数,在IC制造过程中,由于外延后的图形漂移使得后续光刻图形对偏情况时有发生,影响产品质量。本文通过对Si晶体的结构进...
[期刊论文] 作者：段路强,
来源：科技创新与应用 年份：2018
外延雾表面是一种常见的外延缺陷表现形式,在外延淀积后的硅片上,经常出现密集分布的雾缺陷,在器件工艺中,雾缺陷的存在会影响工艺器件的产品性能,因此硅片上的雾缺陷也成为...
[期刊论文] 作者：王政,段路强,罗德炎,王希良,刘贵麟,,
来源：免疫学杂志 年份：2007
目的 将鼠源肾母细胞瘤WT1基因一段序列(WT1y)构建于真核表达质粒pCDNA3.1(+),通过小鼠和体外细胞模型初步研究所激发的针对肾母细胞瘤CTL效应.方法 人工合成WT1基因一段序列...
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