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[会议论文] 作者：周福堂,易人泉,王劲茹,
来源：材料保护 年份：1985
概述了活性反应离子沉积过程,应用单因素优选与正交试验相结合的方法,探讨氮气分压、活化电流、离化电压、基体温度等对活性反应离子沉积氮化钛层性能的影响,分析了工艺参数...
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