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[期刊论文] 作者：倪逸民,秦树南,邱爱叶,李学丹,,
来源：实验技术与管理 年份：1985
磁控溅射具有沉积速率高、基片温升低两个显著特点,目前,在国内得到了较大发展,并已应用于生产,科研各个领域。本文介绍了由北京仪器厂生产的DM-450A型镀膜机改制成的平面磁...
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