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[学位论文] 作者：程丙勋,,
来源：四川大学 年份：2007
在直接驱动惯性约束聚变(ICF)实验中，Al膜和Cu膜是常用的薄膜靶材，因此，制备高质量的Al膜和Cu膜，研究Al膜的结构与物理性能成为其薄膜靶的重要研究内容；基于强辐射源靶对特殊微结......
[期刊论文] 作者：何智兵,吴卫东,程丙勋,许华,
来源：中国工程物理研究院科技年报 年份：2006
薄膜中如果晶粒的取向高度集中于某一方向则称为高择优取向。具有高择优取向的薄膜与无序取向的薄膜相比呈现不同的物理、化学性质和机械性能，如耐蚀性、催化性、内磁性等。近......
[期刊论文] 作者：何智兵,吴卫东,唐永建,程丙勋,许华,,
来源：材料科学与工程学报 年份：2007
在不同氧氩比例气氛下,采用反应直流磁控溅射方法制备了SiO2薄膜.利用X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）、原子力显微镜（AFM）和紫外可见光谱（UV-Visible spectrum）等研究了氧氩比......
[期刊论文] 作者：许华,吴卫东,何智兵,程丙勋,袁光辉,陈志梅,
来源：中国工程物理研究院科技年报 年份：2006
制备金／钆混合膜时，由于金/钆两者原子半径和电负性相差较大，不易形成大量的固溶体，内应力较大，金／钆混合膜极易破碎，为此采用制备金／钆多层膜的方法来减少薄膜的应力，解决金/钆膜破裂......
[期刊论文] 作者：程丙勋, 吴卫东, 何智兵, 许华, 唐永建, 卢铁城,,
来源：强激光与粒子束 年份：2006
采用直流磁控溅射方法制备了纯Ti膜,研究了不同功率下Ti膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其应力进行了研究。研究表明:薄膜的沉积速率随溅射功率的增加而增加,当溅射功...
[期刊论文] 作者：程丙勋,吴卫东,何智兵,许华,唐永建,卢铁城,,
来源：强激光与粒子束 年份：2008
采用直流磁控溅射方法成功地制备了Al膜，研究了退火温度对Al膜表面形貌、晶体结构、应力、择优取向及反射率的影响。研究表明：不同退火温度的薄膜晶粒排布致密而光滑，均方根粗糙......
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