搜索筛选:
搜索耗时0.0740秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 8 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者:程天风,,
来源:集成电路应用 年份:2003
晶圆代工(Wafer Foundry)模式从最早期的填充过剩产能(Capacity Fill)到纯粹代工(PurePlay)而至今日的完全代工(AllPlay,指为用户提供全部解决方案)的时代,历经数次产品...
[期刊论文] 作者:程天风,
来源:半导体技术 年份:2005
由于新近的技术突破,先前应用瓶颈在光刻领域得到解决方案.如今浸没式氟化氩(ArF)光刻技术已经被ITRS列为45nm,甚至于32nm节点的关键技术.如果要达到路图指标,新的介面液体,...
[期刊论文] 作者:程天风,
来源:半导体技术 年份:2004
针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战.其中包含0.85NA双载具193nm TWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据.80nm的生产必须要有...
[期刊论文] 作者:程天风,黄秋生,
来源:镇江医学院学报 年份:1994
喉癌是耳鼻喉科常见的恶性肿瘤,我科自1990年以来共收治喉癌病人14例,其中行全喉切除+颈清扫术+空肠代咽及食道发音重建术尚属首例,现将护理体会小结如下。1 病例介绍...
[期刊论文] 作者:胡芃,程天风,,
来源:中国集成电路 年份:2006
ASML公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术以支持复杂的集成电路制造。ASML目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构,拥有5000位员工。对于国内代工业水平的不断发...
[期刊论文] 作者:程天风,Jeroen,Huijbregtse,Richard,
来源:电子工业专用设备 年份:2004
基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要.不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响.介绍两个主要科技研发项目:先进对准配套...
[期刊论文] 作者:程天风,Jeroen Huijbregtse,Richard van Haren,André Jeunink,,
来源:电子工业专用设备 年份:2004
基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要.不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响.介绍两个主要科技研发项目:先进对准配套...
[期刊论文] 作者:程天风,Jeroen Huijbregtse,Richard van Haren,André Jeunink,
来源:电子工业专用设备 年份:2004
基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要。不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响。介绍两个主要科技研发项目:先进对准配...
相关搜索: