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[期刊论文] 作者：葛继三,何禄宽,
来源：半导体技术 年份：1998
以双氧水为例列举了国内电路生产厂家对杂质和颗粒的要求，同时指出当前我国电路生产处于超大规模集成电路阶段，而超净高纯试剂的生产则只能满足大规模集成电路的需要，ＶＬＳＩ级试剂主要......
[期刊论文] 作者：葛继三,何禄宽,董素娟,
来源：半导体技术 年份：1998
以双氧水为例列举了国内电路生产厂家对杂质和颗粒的要求，同时指出当前我国电路生产处于超大规模集成电路阶段，而超净高纯试剂的生产则只能满足大规模集成电路的需要，ＶＬＳＩ级试剂主要......
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