搜索筛选:
搜索耗时3.9005秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 2 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：袁琼雁,王向朝,,
来源：激光与光电子学进展 年份：2007
介绍了65nm和45nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数,最后简要介绍了下一代光刻技术的研...
[期刊论文] 作者：袁琼雁,王向朝,施伟杰,李小平,,
来源：激光与光电子学进展 年份：2006
浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径，可以将193nm光刻延伸到45nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理，讨论了液体...
相关搜索：
